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        產(chǎn)品詳細(xì)頁
        高分辨率顯微鏡載玻片靶

        高分辨率顯微鏡載玻片靶

        • 產(chǎn)品型號:
        • 更新時間:2023-12-19
        • 產(chǎn)品介紹:高分辨率顯微鏡載玻片靶采用高精度電子束光刻技術(shù)設(shè)計。這些圖案蝕刻在光譜透射范圍廣泛 (DUV-VIS-NIR) 的 10 &#215; 10mm&#178; 熔融石英基底上,在該襯底上施加高光密度的鉻層。通過去除鉻層,形成尺寸低 100nm 的圖案。本產(chǎn)品提供優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性,并安裝在金屬顯微鏡載玻片支架中。每個靶上的負(fù)片圖案允許結(jié)構(gòu)透明,而背景被鉻層阻擋。
        • 廠商性質(zhì):代理商
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        產(chǎn)品介紹

        品牌其他品牌價格區(qū)間1萬-5萬
        組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池

        高分辨率顯微鏡載玻片靶

        Ø小圖案尺寸 - 100nm 和 3300 lp/mm

        Ø采用高精度電子束光刻技術(shù)制作

        Ø負(fù)片圖案設(shè)計

        高分辨率顯微鏡載玻片靶采用高精度電子束光刻技術(shù)設(shè)計。這些圖案蝕刻在光譜透射范圍廣泛 (DUV-VIS-NIR) 的 10 × 10mm² 熔融石英基底上,在該襯底上施加高光密度的鉻層。通過去除鉻層,形成尺寸低 100nm 的圖案。高分辨率顯微鏡載玻片靶提供優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性,并安裝在金屬顯微鏡載玻片支架中。每個靶上的負(fù)片圖案允許結(jié)構(gòu)透明,而背景被鉻層阻擋。

        高分辨率顯微鏡載玻片靶

        高分辨率顯微鏡美國空軍USAF測試目標(biāo)板可輕松確定透射光中物鏡的分辨率極限,并由 59 個圖案組成,水平和垂直排列的線圖案為 7.5 3300 lp/mm。該測試目標(biāo)板還具有 5 個直徑在 4.0-0.25μm 之間的針孔,可用于微成像光學(xué)元件的詳細(xì)表征。

        高分辨率顯微鏡星測試目標(biāo)板

        高分辨率顯微鏡星測試目標(biāo)板由 5 顆西門子星組成,其特點是星中心的錐形部分制造的小寬度為 150nm。該測試目標(biāo)板非常適合于確定具有非常高數(shù)值光圈的顯微鏡物鏡的分辨率。

        高分辨率顯微鏡檢查板

        高分辨率顯微鏡檢查板的特點是 50 x 50 平方微米的正方形總尺寸為 9.0 x 9.0 平方毫米。檢查板非常適合于測試圖像歪斜和曲率,以及確定由于直線和銳邊導(dǎo)致的圖像質(zhì)量。

        高分辨率顯微鏡載玻片靶通用規(guī)格

        Pattern Tolerance:

        100nm/cm = 10-5

        光密度 OD:

        OD>8 @ 400nm, 6 @ 550nm, 4.5 @ 750nm, 3.6 @ 1000nm

        光譜范圍:

        200 - 2000nm

        基底:

        Fused Silica w/Chrome deposit

        尺寸 (mm):

        10 x 10 x 1

        構(gòu)造 :

        Stainless Steel, 75 x 25 x 1.5mm, microscope slide format

         

        訂購信息:

        標(biāo)題

        產(chǎn)品號

        High Res Microscopy Star Target

        #37-538

        High Res Microscopy USAF Target

        #37-539

        High Res Microscopy Checker board

        #37-540

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